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반도체 디바이스가 20㎚ 시대로 들어가면서 금속성 또는 유기, 무기성 오염에 의한
Non-Visual Defect이 반도체 수율에 미치는 영향이 점점 중요해지고 있어 더 이상 무시할 수 없는 수준에 이르고 있습니다.
따라서, Non-Visual Defect에 대한 관리는 20㎚ 이하 디바이스의 개발 및 수율 관리에 핵심적인 요소가 될 것입니다.
당사의 M-SPEC, O-SPEC 및 I-SPEC은 각각 반도체 생태계에 필요한 Wafer 표면 및 Bulk, 공정 Gas 및 Chemical 속에
잔류하는 금속성, 유기성, 무기성 오염을 모니터링하는 Total Solution을 제공합니다.