NvA-IW300 시리즈 양산 라인용 Wafer 이온성 오염 모니터링 시스템

제품설명

NvA-IW300 시리즈는 세계 최초로 반도체 양산라인 내에서 이온 오염에 의한 수율 감소 또는 wafer 폐기 등의 사고를 방지하기 위해

Wafer 상의 이온성 오염에 의한 Non-Visual Defect을 검출하는 시스템입니다.

 

NvA-IW300 시리즈는 Standalone 구조의 계측장비로서, Wafer 스캔 시스템, IC가 내장된 전자동 측정 시스템입니다.

 

반도체 분석실뿐만 아니라 양산라인에서 사용할 수 있도록 하기 위해 공장자동화 및 Host 통신을 지원하며,

자체 자동 Calibration 시스템을 통해 정량분석이 가능한 시스템입니다.


특징
  • ㆍ Wafer 이송부터 wafer scanning, 샘플 준비 및 IC 분석까지 전자동 시스템
    ㆍ 인라인 사용을 위한 IC 내장형
    ㆍ 안전 설계
    ㆍ 공장 자동화 및 온라인 데이터 전송 시스템 지원
    ㆍ 인체에 해로운 Gas나 Chemical 미사용
주요 사양
  • ㆍ 검출한계 : 1 ppb (1.0E10 atoms/cm^2)
    ㆍ Throughput : 1.5 WPH
    ㆍ 검출원소 : Wafer 표면의 이온성 잔류물질(F-, Cl-, Br-, NO2-, NO3-, SO42-, PO43-, ClO2-, BrO3-, ClO3-, CO32-, C2O42-, HCOO-, C3H5O2-, NH4+)
    ㆍ 분석기 : IC (Ion Chromatography)
주요 응용처
  • ㆍ Etch 공정 후 wafer에 잔류하는 etch source gas의 측정 - CF etchant (CF4, CHF3, C4F6, etc), SiF4, Cl2, HBr, NO2, NO3
    ㆍ Clean 공정 후 wafer에 잔류하는 이온성 잔류물질의 측정 - NO2, NO3, SO4, F, NH3, etc.
    ㆍ Metal 적층 공정 후 wafer 상의 잔류물질의 측정 - TiCl4, WF6, Cl, F.