NvisANA

2010년 설립된 엔비스아나는 세계 최초로 반도체 Wafer 상에서 광학적으로 검출 불가능한 극미량의 금속성 오염을 인라인에서 실시간으로 모니터링할 수 있는 장비를 개발하여 공급하고 있습니다. 현재는 Wafer 외에 Chemical 및 Gas 내 금속 불순물 전자동 실시간 모니터링 설비도 개발 완료하여 공급하고 있으며, 동시에 유기물과 이온을 검출할 수 있는 장비도 개발하고 있습니다.

수율과 신뢰성으로 대표되는 반도체 공정이 20㎚ 이하의 미세공정화(Design rule shrink)가 진행되면서, 前세대 디바이스에서는 간과되었던 오염이 디바이스 성능에 직접적인 영향을 주기 시작하면서 생산수율 및 디바이스 신뢰성에 상당한 영향을 끼치고 있습니다.

이는 수율 향상을 위한 결함 관리 패러다임이 과거 ‘Visual’ 영역뿐만 아니라 ‘Non-Visual’ 영역까지 확대되는 계기가 되었으며, 결국 미세공정화(design rule shrink)로 인해 Fab 내 오염 모니터링에 의한 수율 관리의 중요성이 점점 더 증가하고 있습니다.

엔비스아나는 반도체 Wafer 오염 모니터링 기술의 핵심 역량을 바탕으로 반도체 Fab 뿐만 아니라
Display 및 소재 분야에도 오염 모니터링 기술을 제공하는 Total Solution Provider로 성장하여,
유수의 해외 반도체 장비 기업과 어깨를 나란히 할 때까지 기술 개발 및 혁신을 계속할 것입니다.